在后道领域，光刻机应用于8寸/12寸集成电路先进封装领域，可满足先进封装技术的晶圆级光刻工艺需求，并制造了国内首台2.5D/3D先进封测光刻机
光刻机双工作台供应商，是国内首家自主研发并实现直线电机光刻机双工件台商业化生产的企业，上海微电子的双工件台产品及技术开发的供应商
针对国产高端IC前道光刻机的需求推出了DWS和DWSi两种系列的双工件台，可根据客户定制化需求提供技术开发服务和产品
业务包括国产自研光刻曝光光源产品、进口高端光源技术服务、集成电路检测光源、特种高压电源、高端光源核心元器件等产品的销售和技术服务。主要产品为DUV(深紫外)光刻光源系列
在光刻机关键器件方面，已向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件
国内领军专业封测厂商，核心技术为晶圆级光学元件技术。通过子公司收购ASML的核心供应商之一Anteryon，从而布局光刻机相关业务
Anteryon为全球光刻机龙头ASML公司的核心供应商之一。Anteryon可在晶圆级元件上应用复制技术，并在玻璃或硅晶圆上实现 光学结构，堆叠各种晶圆和间隔物，将孔径或电子设备等功能集成到层中，实现复杂光学组件的大批量低成本生产
为半导体核心设备提供涵盖真空阀门、管道管件、反应腔体、气体钢瓶等多种零部件产品
与世界知名半导体设备厂商以及与国内知名半导体设备厂商开展合作，如美商应材(AMAT)、拉姆研究(LAM)、北方华创、中微半导体
与下游企业及科研机构建立了合作关系，包括光通信领域的Lumentum、Finisar、华为等，光纤激光领域的锐科激光、nLIGHT等
在研项目“合分束器项目”的相关产品即应用于光刻机光学系统，该项目为客户定制化产品开发项目，应用的技术在光学光电子精密制造领域深耕多年形成的光学镀膜、光学精密加工、玻璃非球面模压以及光纤器件的设计制造工艺。进度约为30.2%
国内领先精密光学解决方案供应商，产品是光刻机的重要光学部件，覆盖深紫外DUV、可见光到远红外全谱段
产品主要包括精密光学器件、光学镜头和光学系统三大类，广泛应用于半导体(包括光刻机及半导体检测装备)、生命科学、航空航天、无人驾驶、生物识别、AR/VR检测等领域
为Camtek、KLA等全球知名半导体检测装备商提供半导体检测光学模组，并与Camtek、KLA、上海微电子等多家全球领先企业达成长期战略合作伙伴关系
主要从事高功率半导体激光元器件和原材料的研发、生产和销售。生产的光场匀化器和广角匀化扩散器为光刻机制造的重要元件
目前正在积极拓展光子产业链中游的光子应用模块、模组、子系统业务，重点布局汽车应用、泛半导体制程、医疗健康等领域
主要从事非线性光学晶体、激光晶体、精密光学元件和激光器件的研发、生产和销售，同时也为光刻机的生产与制造提供重要零部件，曾经是ASML的供应商之一
生产的KBBF晶体属于激光设备的上游关键零部件，KBBF晶体是可直接倍频产生EUV激光的非线性光学晶体，用于超高光分辨率光电子能谱仪、光刻技术等前沿领域
主要产品为光学镜头、光学元器件、光电仪器、光学电子产品等，特种光学镜头及光电系统广泛应用于光刻机等高端装备
国内空气净化行业领先供应商。研发的EFU(超薄型设备端自带风机过滤机组)及ULPA(超高效过滤器)等产品为光刻设备所需的高洁净环境提供解决方案
已量产250nm工艺节点的6英寸和8英寸半导体芯片用掩膜版，主要应用在IGBT、MOSFET、碳化硅和MEMS等领域
正在开展130nm-65nm半导体芯片用掩膜版的工艺研发和28nm节点的掩膜版工艺开发规划
与株洲半导体、三安集成、安靠、士兰微、泰科天润、上海先进、华微电子、方正微电子、中芯国际、赛微电子和长电科技等国内重点企业建立了深度的合作关系
已具有G2.5-G11全世代掩膜版生产能力，可以配套平板显示厂商所有世代产线nm及以上制程节点半导体掩膜版量产，并取得了150nm制程节点半导体掩膜版制造关键核心技术，可以满足国内先进半 导体封装和半导体器件等应用需求
深化与生益电子、胜宏科技、定颖电子、沪电股份等客户的合作，并新增鹏鼎控股的客户订单，在软板、类载板、阻焊等细分市场表现优异
